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結合力等要求，以及與HDI板工藝適應性。目前國際上的HDI積層介質材料主要是日本味之素公司的ABF/GX系列產品，以環(huán)氧樹脂搭配不同固化劑，以添加無機粉末提高材料剛性及減少CTE，也有使用玻纖布增強剛性。另有日本積水化學公司的類似薄膜積層材料，臺灣工研院也開發(fā)了此類材料。ABF材料也在不斷改進發(fā)展，

并受系統(tǒng)結構設計、元器件選擇、安裝、制造工藝影響。這些都構成單片機系統(tǒng)的干擾因素，常會導致單片機系統(tǒng)運行失常，輕則影響產品質量和產量，重則會導致事故，

過孔：過孔也稱金屬化孔。在雙面板和多層板中，RDM

以通過測電壓的方法很難判斷CPU是否輸入了復位信號。而一般維修人員又沒有示波器，為此可通過簡單易行的模擬法進行判斷。對于采用低電平復位方式的復位電路，在確認復位端子供電電壓為高電平后，可通過100Ω電阻將CPU的復

為連通各層之間的印制導線，在各層需要連通的導線的交匯處鉆上一個公共孔，用于連接各層之間元器件引腳的金屬孔。導線：指的是用作電線電纜的材料，工業(yè)上也指電線。用于連接元器件引腳的電氣網絡銅膜。填充：用于地線網絡的敷銅，

即按照系統(tǒng)功能要求配置外圍設備，如鍵盤、顯示器、打印機、A/D、D/A轉換器等，要設計合適的接口電路。系統(tǒng)的擴展和配置應遵循以下原則RDM

三個基本工作條件。
1.供電
由電源電路輸出的5V電壓送到CPU供電端，為CPU內部電路供電。大部分CPU能夠在4.5～5.3V供電區(qū)間正常工作。
2.復位
CPU的復位方式有低電平復位和高電平復位兩種。采用低電平復位方式的復位端有0V→5V的復位信

：（1）盡可能選擇典型電路，并符合單片機常規(guī)用法。為硬件系統(tǒng)的標準化、模塊化打下良好的基礎。（2）系統(tǒng)擴展與外圍設備的配置水平應充分滿足應用系