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發(fā)布時間:2022-01-01 點擊量:627
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或者半固化環(huán)氧玻璃布與銅箔層壓的積層難以達到精細線路?,F(xiàn)在趨于采用半加成法(SAP)或改進型半加工法(MSAP),即采用絕緣介質(zhì)膜積層,再化學(xué)鍍銅形成銅導(dǎo)體層,因銅層極薄容易形成精細線路。半加成法技術(shù)重點之一是積層介質(zhì)材料,為符合高密度細線路要求對積層材料提出介質(zhì)電氣性、絕緣性、耐熱性、
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這些特殊的FPCB當然需要非常規(guī)的基材。
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三個基本工作條件。
1.供電
由電源電路輸出的5V電壓送到CPU供電端,為CPU內(nèi)部電路供電。大部分CPU能夠在4.5~5.3V供電區(qū)間正常工作。
2.復(fù)位
CPU的復(fù)位方式有低電平復(fù)位和高電平復(fù)位兩種。采用低電平復(fù)位方式的復(fù)位端有0V→5V的復(fù)位信
候,應(yīng)該考慮以下問題
大于5μm。銅箔粗糙的凸峰嵌入基材是提高了抗剝離性,但在線路蝕刻時為控制導(dǎo)線精度不至過蝕刻,容易有嵌入基材凸峰殘留,造成線路間短路或絕緣性下降,對精細線路尤為嚴重。因此需要低粗糙度(小于3μm)的銅箔,甚至更低粗糙度(1.5μm)的銅箔。但銅箔粗糙度降低而導(dǎo)體的抗剝強度仍要保持,
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